半導體去離子水設備

• 重要性：半導體制造過程中，對水中的顆粒物、雜質、離子等有**的要求，去離子水可保證芯片質量和性能，減少芯片制造過程中的瑕疵和缺陷 

• 工藝流程 ：

• 預處理：通常包括砂濾、活性炭過濾、軟化等步驟，去除水中的大顆粒雜質、有機物和硬度離子，防止對后續反滲透膜造成堵塞或損壞。

• 一級反滲透：經過預處理的水進入一級反滲透裝置，在壓力作用下，水通過反滲透膜，鹽分、有機物等雜質被截留，產水電阻率一般在 0.05-0.5mΩ.cm，可滿足一些對水質要求相對較低的半導體生產環節需求。

• 二級反滲透：一級反滲透的產水再經過二級反滲透進一步提純，能更有效地去除水中的殘留雜質，使產水水質更高，電阻率可達到更高水平，更接近半導體生產所需的超純水標準。

• 后續處理：為了達到半導體行業對超純水的嚴格要求，二級反滲透后的水還可能經過 EDI 裝置、離子交換樹脂、超濾、紫外燈殺菌等后續處理步驟，進一步去除水中的微量離子、有機物和微生物等。

• 設備特點 ：

• 出水水質穩定：能連續生產出符合用戶要求的超純水，水質具有穩定性，不受原水水質波動影響。

• 無需酸堿再生：如采用 EDI 技術，無需使用酸和堿對離子交換樹脂再生，無污水排放，減少了化學藥劑的使用和廢水處理成本。

• 自動化程度高：可實現全自動控制，易于操作和維護，減少人工干預，提高生產效率。

• 運行成本低：相比傳統的離子交換等方法，運行費用較低，且設備結構緊湊，占地面積小 。