產品簡介 處理量 90t/h 光源技術 微波光源探測技術 架構 履帶式 10T反滲透設備 設備性能·前置5μ微過濾器，保護高壓泵及反滲透膜不受顆粒或其它硬物損壞。·低壓開關保護高壓泵不會因供水停止而損壞。·高效率、低噪音的高壓泵，降低運行噪音，減少耗電。·脫鹽率高，運行壓力低的卷式復合膜提高了產水水質及降低運行成本，且使用壽命長。·產水、濃水各設有流量計以監視并調節運行出水量及系統回收率。·產水電導率表連續監視產水水質。·進水及排水壓力表，連續監測反滲
詳細介紹 10T反滲透設備 設備性能·前置5μ微過濾器，保護高壓泵及反滲透膜不受顆粒或其它硬物損壞。·低壓開關保護高壓泵不會因供水停止而損壞。·高效率、低噪音的高壓泵，降低運行噪音，減少耗電。·脫鹽率高，運行壓力低的卷式復合膜提高了產水水質及降低運行成本，且使用壽命長。·產水、濃水各設有流量計以監視并調節運行出水量及系統回收率。·產水電導率表連續監視產水水質。·進水及排水壓力表，連續監測反滲透膜的壓差，提示何時需要清洗。·自動停水閥以避免停機時水繼續流入。·快速沖洗閥門定時沖洗膜表面。降低污染速度。0.25m3/h一級反滲透裝置 3T一級反滲透裝置10.0m3/h一級反滲透裝置滲透膜運行反參數→污染物去除率脫鹽率：97%-99%有機物去除率：>150MW細菌隔除率：>99%熱原去除率：>99%顆粒去除率：>99%進水要求：污染指數（SDI）：<5余氯：<0.1mg/LPH：5-8水溫：4°-40℃ 6T反滲透裝置反滲透預處理超純水裝置3T反滲透裝置涂裝電鍍用反滲透30T反滲透 超濾裝置是一種能將溶液進行凈化分離的膜透過設備，通常截留的溶質分子量在500-500000之間。其超濾膜呈中空毛細管狀，管壁密布微孔，原水或需要處理的溶液在壓力下通過管內流動，水及小分子溶質過膜壁成為超濾液，大分子物質稱為濃縮液被截留排出，從而達到純化和分離目的。 超濾裝置的應用很廣：在純水制備工藝中，超濾可作為反滲透的前處理或離子交換終端過濾，以去除膠體、微生物、機械雜質和離子交換樹脂碎片；在醫藥工藝中用于制備無菌去熱原純水；在制藥、制劑工業中用于除菌澄清；飲料礦泉水的除菌及輕紡、化工、環保等工業廢水的處理。 10T反滲透設備
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