白炭黑濕法研磨分散機，連續式濕法膠體磨，高速膠體磨，高剪切膠體磨，不銹鋼膠體磨，在線式膠體磨

白炭黑濕法研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

改性白炭黑就是對白炭黑的改性

白炭黑改性  白炭黑的表面改性是利用一定的化學物質通過一定的工藝方法使白炭黑的表面烴基與化學物質發生反應，消除或減少其表面活性硅醇基的量，已達到改變表面性質的目的。

其一，將干燥的白炭黑與改性劑及一種有機溶劑（苯，甲苯等）組成的溶液加熱煮沸，回流反應，然后分離、干燥。該法的主要特點是工藝簡單，產品質量容易控制，改性劑耗量小。缺點是其產品后處理過程復雜，且造成有機溶劑污染，較難實現規模化工業生產。

其二，將干燥的白炭黑或洗滌后的沉淀白炭黑濾餅配制成水溶液漿料，加入水溶性有機溶劑如醇類或表面活性劑等，然后加入改性劑進行有機硅烷反應；再合成沉淀反應完成后的懸浮液中加入改性劑。該法的主要特點是工藝簡單，補助設備少，可以對沉淀白炭黑尤其是沉淀白炭黑的半成品進行改性，有利于降低成本。例如，在硅酸鈉和硫酸沉淀反應后的懸濁液中加入醋乳濁液

白炭黑濕法研磨分散機，連續式濕法膠體磨，高速膠體磨，高剪切膠體磨，不銹鋼膠體磨，在線式膠體磨

CMD2000改進型膠體磨為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。

CMD2000改進型膠體磨有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

CMD2000系列改進型膠體磨的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

，高速膠體磨，高剪切膠體磨，不銹鋼膠體磨，在線式膠體磨

改進型膠體磨的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。\

設備核心參數：

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

CMD2000系列選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%

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