TDLS激光微量氣體分析儀 EDK 6900S系列
NH3 /CH4/HF /HCl /CO2/H2O等
原理
EDK系列產品采用增強型TDLS技術,0,1nm的掃描波長,避免目標被測氣體吸收波長的交叉干擾,也可稱為“指紋光譜”,可實現高分辨率的近紅外吸收測量。電子鎖相技術實現從光電信息中提取并分離出被測氣體的吸收信息,此種檢測方法,不需要物理參考池,且提供了連續的傳感器狀態監測。EDK TDL6900系列產品提供了高精度、低檢測限的解決方案,儀器具有對被測氣體高準確度選擇性進行非接觸式測量、免標定、低成本、易操作等特點。
EDK TDL6900系列產品可以輕松測量一些常規方式不易測量的微量氣體,比如NH3、CH4、CO2、H2O等,這些氣體的監測與分析在很多工業場合至關重要。高靈敏度和寬的動態量程,是可調諧半導體激光器光譜(TDLS)技術的基本特性,可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。
典型應用 | 系列產品 |
---|---|
√ CH4甲烷 垃圾填埋 | EDK 6901 A – 大氣微量CH4監測 |
√ 生物氣/沼氣分析監測 | EDK 6902 A - 大氣微量CO2 監測 |
√ 連續污染物排放監測 | EDK 6903 A - 大氣微量 NH3 監測 |
√ 逃逸排放 | EDK 6903 H - 高溫高濕氣中微量NH3監測 |
√ 天然氣監測與分析 | EDK 6904 H - 高溫高濕氣中微量HCl 監測 |
√ 農業領域 | EDK 6900 X - CH4/NH3、 CO2 (NDIR)、O2 (ECD) |
√ 工業過程控制 | |
√ 煙氣脫硝 SCR/DeNOx | |
√ 氣候變化研究 | |
√ 環境研究 | |
√ 呼吸分析 |
優勢
· 超高靈敏度
· 功能安全、持續狀態報告
· 長壽命(+10年)
· 快速響應
· 低功耗
· 低成本方案(無耗材、備品備件、無需再標定)
· 優秀的低成本元器件決定低成本傳感器
· 19”安裝支架
· 友好的人機界面
· 數據存儲與日志
· 可擴展的多點采樣系統
· 零點&寬量程校正
· 傳感器狀態自檢
技術參數
目標氣體 | 檢測限 | 典型量程 |
---|---|---|
NH3, (H2O) 氨 *** | ||
(高溫高濕工況) | 0.8 ppm | 0 – 20, 50, 100, (500) ppm |
HCl, (H2O) *** | ||
(高溫高濕工況) | 0.8 ppm | 0 – 50, 100, (500) ppm |
NH3 氨 | 0.4 ppm | 0 – 100 (500) ppm |
CH4 甲烷 | 0.4 ppm | 0 – 100 (40'000) ppm |
CO2 二氧化碳 | 4.0 ppm | 0 – 1000 (300’000) ppm |
* 其他氣體可定制 | ||
** 檢測限是在恒溫恒壓恒濕20°C, 1013 hPa、50 ± 1.5 % r.H.條件下。 系統溫度的突然變化導致的檢測限變化要快于濃度的變化,*** 基于光譜原因,檢測限隨著高溫增加而會降低,比如 NH3 @ 190°C. | ||
準確度 | ± 2%FS 根據積分穩定性(溫度&壓力)而定 | |
精度 | 根據氣體而定 | |
零漂 | 超過兩小時每周期---在準確度內 | |
量程漂移 | 超過八小時每周期---在準確度內 | |
溫度誤差 | < 0.1 讀數/°C | |
線性/重復性 | < ± 2% | |
交叉干擾 | 由混合氣體定,或者根據實際工況 | |
顯示分辨率 | 0.1 ppm | |
刷新率 | 1s (可設置,最多120 s) | |
T90時間 | 2s (@氣量3 L/min) | |
環境溫度補償 | -10 ~65°C (盡可能小的溫度波動) | |
樣氣濕度 | %濕度,根據工況,需要輸入標定,通過外擴補償壓力、溫度或混合氣體濃度,可定制 | |
樣氣量 | 5(1)L/ min; 標定時3L/min | |
供電 | VAC220-230/115 50/60 Hz | |
外殼 | 19’’ 標準機架安裝(深500mm) | |
防爆等級 | ExdII CT4, ExdII CT5,(可定制) | |
氣路接口 | 世偉洛克 Φ6 mm | |
測量方式 | 原位抽取 | |
采樣泵 | Internal內置 | |
模擬輸出 | 4-20 mA 電流環(無隔離) | |
端口 | Ethernet網口 | |
顯示器 | 5.7” 觸摸屏 | |
數據存儲 | 通過USB口 |